Centrum Grafenu i Innowacyjnych Nanotechnologii

Pro­jekt “Centrum Grafenu i innowacyjnych nanotechnologii”  – Etap II jest współ­fi­nan­so­wany z Euro­pej­skiego Fun­du­szu Roz­woju Regio­nal­nego w ramach Regio­nal­nego Pro­gramu Ope­ra­cyj­nego Woje­wódz­twa Mazo­wiec­kiego na lata 2014–2020, Działanie: 1.1 Działalność badawczo – rozwojowa jednostek naukowych.

  • Termin realizacji: 02.07.2018-31.12.2021
  • Cał­ko­wita war­tość pro­jektu: 37 654 518,04 PLN
  • Dofi­nan­so­wa­nie EFRR 24 712 331,00 PLN.

Realizacja projektu pozwoli na realizację przedsięwzięć naukowych w dziedzinach dotyczących m.in.: technologii materiałów (nowe materiały, materiały warstwowe, dwu-wymiarowe, inteligentne, potencjalne możliwości otrzymywania, opracowania skalowalnych technologii wytwarzania), opracowania technologii wytwarzania grafenu i materiałów na bazie grafenu, identyfikacji nowych koncepcji struktur i przyrządów na bazie grafenu i struktur dwuwymiarowych (do zastosowania w technologiach biomedycznych, sensorach, optoelektronice, fotonice, przyrządach elektronowych, elastycznej elektronice, energetyce). Dzięki zakupionemu sprzętowi będzie możliwe zastosowanie nowych struktur i przyrządów w systemach wykonawczych oferujących nowe możliwości funkcjonowania, a także integracja grafenu i nowych materiałów z istniejącymi platformami technologicznymi m.in.: integracja z technologiami półprzewodnikowymi dla elektroniki. Przewiduje się, że rozwój zaplecza umożliwi także opracowywanie energooszczędnych i przyjaznych dla środowiska nowych produktów na bazie węgla pod kątem zrównoważonego rozwoju.

Projekt zakłada wykorzystanie komercyjne (m.in. świadczenie usług) i naukowe zakupionych urządzeń. Do marca 2021r. zakupiono:

Piec do infiltracji pod niskim ciśnieniem porowatych preform ceramicznych ciekłymi metalami oraz ich stopami

Parametry techniczne:

  • Maksymalna temperatura pracy pieca – 1200°C
  • Pojemność użyteczna tygla – max. 2000 cm3
  • Maksymalne, wymagane ciśnienie robocze gazu ochronnego (argon) – 30 bar
  • Szybkość nagrzewania pieca 10°C/min.

Przeznaczenie:

  • infiltracja porowatych materiałów ceramicznych ciekłymi metalami oraz ich stopami, w tym aluminium i miedzią,
  • przetapianie materiałów metalicznych w warunkach podwyższonego ciśnienia.

Koszt: Jednostkowe koszty do uzgodnienia z klientem w zależności od warunków procesu oraz liczebności serii wytwarzanych produktów.

Aparatura SLM do wytwarzania przyrostowego detali z proszków metali

Parametry techniczne:

  • Maksymalne pole robocze: 200 X 200 X 200 mm,
  • Przetwarzane materiały: stale (np. 316), stopy tytanu (np. Ti6AlV4), stopy aluminium (np. AlSi),
  • Temperatura stołu roboczego: 200°C,

Przeznaczenie:

  • Przyrostowe wytwarzanie elementów techniką selektywnego przetapiania laserem

Koszt: Jednostkowe koszty do uzgodnienia z klientem w zależności od warunków procesu oraz liczebności serii wytwarzanych produktów.

Wysokotemperaturowy piec próżniowy, posiadającego również możliwość pracy w atmosferze gazu ochronnego (argonu)

Parametry techniczne:

  • Maksymalna temperatura pracy urządzenia 2200°C
  • Atmosfera – wysoka próżnia rzędu 5×10-5 mbar
  • Maksymalna szybkość grzania 8°C/min.
  • Wymiary przestrzeni roboczej komory Ø x h: 200x300mm (pojemność 10 litrów).

Przeznaczenie:

  • spiekanie materiałów ceramicznych, w tym ceramiki przezroczystej do zastosowań laserowych,
  • spiekanie materiałów nietlenkowych (np. węglik krzemu) w postaci np. porowatych struktur przestrzennych,
  • spiekanie materiałów metalicznych i kompozytowych o określonych gabarytach,
  • obróbka cieplna materiałów metalicznych według zapotrzebowania i wymagań odbiorcy.

Koszt: Jednostkowe koszty do uzgodnienia z klientem w zależności od warunków procesu oraz liczebności serii wytwarzanych produktów.

Centrum obróbcze ATMS MILL ELITE C23 PRO

Obróbka 3-osiowa (frezowanie) materiałów: miedź, mosiądz, aluminium, stal, ewentualne inne materiały – konsultacja telefoniczna.

Wycena prac ustalana na podstawie stopnia skomplikowania pracy, ilości sztuk itp.

Wysokorozdzielczy rentgenowski tomograf  komputerowy EasyTom firmy RX Solutions

  • otwarta lampa rentgenowska z katodami W (160 kV) i LaB6 (100 kV) oraz targetem wolframowym,
  • detektory: Varian 2520DX (flat panel) i CCD.

Rodzaje badanych materiałów:

Szeroki zakres materiałów zawierających obszary o mierzalnej różnicy absorpcji promieniowania rentgenowskiego, np. kompozyty, materiały mikroporowate, materiały z wtrąceniami lub wydzieleniami, różnego rodzaju szkła, światłowody, metamateriały, polimery, stopy metali, ceramika, podzespoły elektroniczne, itp.

Możliwości metody:

  • wykonywanie przeglądowych zdjęć rentgenowskich (obrazy 2D);
  • przestrzenne obrazowanie 3D obiektów o zewnętrznych rozmiarach do kilku centymetrów;
  • wizualizacja rzeczywistej struktury geometrycznej materiałów, w szczególności:
  • możliwość szacowania wymiarów wewnętrznych (np. grubość poszczególnych warstw, wymiary obiektów wewnętrznych),
  • ujawnianie różnego rodzaju wtrąceń/wydzieleń, wad i nieciągłości materiału oraz ich charakteru (pęknięcia, wtrącenia materiałów obcych, jednorodność materiału, pęcherzyki powietrza itp.),
  • analiza rozmieszczenia i rozmiarów ujawnionych obiektów,
  • analiza rozkładów wielkości wydzieleń, porów i udziału poszczególnych frakcji,
  • szacowanie stopnia porowatości,
  • nieniszczące obrazowanie 2D i 3D obiektów archeologicznych.

Termin realizacji i cena do uzgodnienia w zależności od rodzaju próbek do badań i typu analizy

Reaktor (system) do reaktywnego trawienia jonowego RIE (reactive Ion etching)

Sputron magnetronowy DC wraz z targetami wcz

Urządzenie do charakteryzacji przyrządów półprzewodnikowych z wieloma głowicami SMU oraz precyzyjnym manipulatorem proberem

Stanowisko do centrowania i naświetlania w głębokim UV 4

Kontakt: komercjalizacja@imif.lukasiewicz.gov.pl, (22) 63 95 808.

W odpowiedzi na “”

Możliwość komentowania jest wyłączona.

Skip to content